中東情勢により半導体メモリ生産が停止する臭素チョークポイント
原題: The Bromine Chokepoint
なぜ重要か
半導体メモリ生産における臭素依存の地政学リスクが業界の構造的脆弱性を浮き彫りにしている
イスラエルと米国によるイラン戦争は、半導体メモリ生産チェーンの構造的脆弱性を露呈した。韓国は臭素輸入の97.5%をイスラエルに依存しており、イランの弾道ミサイル攻撃により臭素生産施設が攻撃されている。臭素は半導体製造に不可欠な原料で代替不可能。
イスラエルとアメリカによるイラン戦争により、世界の半導体メモリサプライチェーンの脆弱性が明らかになった。注目されているのはヘリウム不足だが、より深刻なのは臭素の供給問題である。臭素は半導体級臭化水素ガスの原料で、韓国の工場がDRAMとNANDフラッシュチップのトランジスタ構造エッチングに使用している。韓国は臭素輸入の97.5%をイスラエルに依存している。イスラエルの多国籍企業ICLグループが死海で臭素を抽出している。イランは3週間にわたりイスラエル南部のネゲブ砂漠にミサイル攻撃を行い、ICLの死海抽出・変換施設から35キロ以内のディモナとアラドを攻撃した。臭素の半導体製造における役割は特定的で代替不可能である。臭化水素はポリシリコンエッチング段階で消費され、DRAMとNANDフラッシュ生産の基盤となっている。各DRAM記録セルには20オングストロームの薄い酸化シリコン層上に極めて精密にエッチングされたポリシリコンゲート電極が必要で、臭化水素ガスプラズマは100対1の選択比を達成する一方、塩素系代替品は約30対1の選択比にとどまる。